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鉬靶材是一種用于濺射鍍膜工藝的高質量金屬材料，由于鉬的高熔點和熱穩定性，鉬靶材在高溫濺射工藝中表現優質，具有卓越的性能和廣泛的用途。我們的鉬靶材具有很高的化學純度以確保薄膜沉積過程中的高質量和可靠性；還擁有均勻的微觀結構，有助于產生均勻、穩定的薄膜。鉬靶材被廣泛應用于半導體制造中，用于制備導電層、光學薄膜和其他功能性薄膜。在光學領域，鉬靶材也可用于制備高反射率鏡片、光學涂層和其他光學元件。
品名
鉬靶材
成分
Mo
外觀
銀白
純度(%)
≥99.95%
相對密度
≥99.9%
規格(mm)
?135×?171×L2700、?125×?151×L2270、W290×L2394×T15、W200×L2650×T18
雜質≤ (ppm)
Fe
Al
Si
Ni
Cu
Cr
Sum
100
50
500
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